来源:网络 作者:Conductor.C
两层内阴影加一层内发光做出厚度，特别强调下部边缘的厚度
键帽的顶部同理，相似的方法根据不同的光影情况给予略微不同的参数不断调整即可。不过此处的渐变叠加是用于做
键帽顶部本身的弯曲度，渐变不宜选区差异过大的颜色，否则会变形。
添加上一个较为柔和的投影做出键帽的顶部与底部的上下层级关系的感觉，可以不必太深，之后还可以通过强化某一立面暗影的方式凸显键帽深度。
单独使用投影+蒙版的方式刻画或强化前后立面的深度。注意参数的调整，使得阴影更加真实(后立面深度也可不进行单独强化，这取决于光源的选取，实际作品中为对比更为强烈，未对后立面进行单独强化)
最后做出整体键帽在键盘或键槽上的阴影(如果切图要求能满足的话)
至此，一个键帽就完工了，其余部分大体不过形状位置或大小或图层样式参数的调整，此处就不赘述了
